韩国ENF Technology已向SK海力士交付首批半导体级氢氟酸
韩国ENF科技实现半导体级氢氟酸国产化，首批产品已交付SK海力士，用于晶圆刻蚀与清洗并投入DRAM产线。自2020年起累计投资超1000亿韩元建成一体化产能，目标2026年下半年批量外供，打破日本长期垄断。
6月16日，一则来自财闻海外资讯的消息在半导体圈引起关注——ENF科技成功实现了半导体级氢氟酸的国产化，本月初已向SK海力士交付了首批产品。这意味着，韩国在该关键材料上终于撕开了进口依赖的口子。
这款产品主要用于晶圆刻蚀与清洗工序，目前已经投入产线试运行。按计划，本月下旬将扩展到DRAM等主力产线。业界预计，一旦全面铺开，未来有望覆盖SK海力士半数以上的需求。
把时间拨回2020年，韩国半导体行业的氢氟酸国产化就开始发力。在此之前，ENF科技一直高度依赖日本进口的氢氟酸来生产缓冲氧化蚀刻液（BOE），成本压力可想而知。要知道，韩国半导体行业每年对氢氟酸的需求大约在6万吨，BOE的需求更是高达9到10万吨——这块市场蛋糕，规模惊人。
为了啃下这块硬骨头，ENF科技从2020年起累计砸下超过1000亿韩元。具体来看，项目分步推进：首期投资348亿韩元，后续追加536亿，到2024年又投入509亿进行二期建设。最终在忠清南道天安厂区，建成了从氢氟酸到BOE的一体化完整产能体系。
目前，ENF正在紧锣密鼓地推进多客户品质验证，目标是在2026年下半年实现批量外供。由于高纯度、高安全风险以及严格的监管壁垒，韩国氢氟酸市场长期被日企牢牢把持。这次突破的意义，不亚于在供应链关键环节上打开了一扇门。
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