阿斯麦与荷兰应用科学研究组织TNO合作推进光子芯片量产
作者:慢热型
时间:2026-08-22
浏览:3
阿斯麦与荷兰应用科学研究组织TNO合作,围绕TNO在埃因霍温的光子芯片试验生产线提供DUV和I-Line光刻设备,目标实现6英寸晶圆磷化铟光子芯片量产,推动从实验室走向工厂的关键一步。
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最近光电子领域传来一条值得关注的消息——ASML(阿斯麦)与荷兰应用科学研究组织TNO正式牵手,目标直指光子芯片的量产化。从合作内容来看,双方将围绕TNO正在埃因霍温高科技园区建设的光子芯片试验生产线展开深度协作。ASML会分阶段提供DUV和I-Line光刻设备作为制造技术支撑,而这条产线一旦投产,将具备6英寸晶圆规模的磷化铟(InP)光子芯片量产能力。
说白了,这可不是普通的实验室合作。光子芯片被不少业内人士视为下一代计算与通信的核心载体,但长期以来卡在“怎么从实验室走到工厂”这个环节上。如今ASML带着成熟的光刻机产品下场,TNO则拿出从材料到工艺的积累,产线定位在6英寸晶圆——这个尺寸对于光子芯片的早期产业化来说,恰好是一个相当务实的起点。磷化铟材料在光发射、调制和探测方面性能优异,量产门槛却一直偏高,这次合作如果能跑通,对整个光电子产业链的示范意义不言而喻。
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