三星因财务因素推迟引入 High-NA EUV 技术非技术限制所致
三星因晶圆代工业务持续亏损，决定推迟高数值孔径极紫外光刻机（High-NAEUV）的量产部署，此举纯属财务考量，而非技术限制。尽管其2nm制程良率已接近60%，但为控制成本，三星选择在盈利前景明朗前维持保守的资本支出策略。
芯片制造领域的最新动向来了。英特尔已经率先把High-NA EUV技术搬上了量产线——18A工艺的Panther Lake就是第一块试验田。而三星这边，虽然也砸下重金、装了两台High-NA EUV设备，却迟迟没有让它们真正跑起来。业内人士普遍认为，这背后更多是财务账本上的考量，而不是技术卡脖子。
根据报道，三星去年就在华城园区安装了首台High-NA EUV设备，今年上半年又加装了一台，总投资金额预计超过1万亿韩元（按当前汇率约合45.57亿元软妹币）。但问题是，这批设备至今没有投入量产，商业化部署还处于“暂停键”状态。
为什么三星这么谨慎？核心原因在于它的晶圆代工业务——从2022年起就一直处于亏损状态。不过，市场观察人士预计，这块业务最快今年第四季度就有望扭亏为盈。对三星来说，现在把High-NA EUV设备拉进量产，意味着固定运营成本会大幅飙升。在即将看到盈利曙光的关键节点上，它显然不愿意再背上一笔沉重的资本开支包袱。
好消息是，三星的2nm工艺良率已经提升到55%左右，距离业内公认的稳定量产门槛——60%——已经非常接近了。半导体设备行业人士指出，以目前的良率水平，三星其实已经具备了部署新设备的能力。但关键在于，在拿到更多大客户订单、确保盈利能力更稳固之前，三星还是会选择保守的资本支出策略。说白了，就是先求稳，再求快。
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